碳化硅微粉化學除碳工藝有哪幾種

   碳化硅是一種人造材料，在工業生產中碳化硅的冶煉多采用碳熱還原法，以石英砂，焦炭，木屑和工業鹽為基礎材料，在電爐中高溫冶煉而成。碳化硅材料因其具有強度高，硬度高，耐磨損，耐腐蝕，抗氧化，高熱導和熱穩定性好等性能，在各個工業領域中得到廣泛應用。碳化化的種類有很多，如碳化硅粉，碳化硅微粉，碳化硅塊，碳化硅球等。由于碳化硅微粉在生產過程中原料中不完全反應以及加工設備和外界環境的影響，使得加工成的碳化硅微粉存在很多雜質。這些雜質主要包括游離的碳，石墨，硅和二氧化硅以及鐵，鋁等金屬單質及其氧化物，它們的存在嚴重影響了碳化硅的物理化學性能和使用范圍。

   加熱氧化法。通過對碳化硅微粉進行高溫煅燒，使碳化硅微粉中的游離碳及石墨與空氣中的氧氣反應，以二氧化碳或者一氧化碳的形式脫離碳化硅，從而實現了除碳的目的。工藝條件是煅燒溫度900攝氏度，煅燒時間3小時，碳化硅內部的碳雜質得到了完全去除。在一定的溫度及時間范圍內，加熱氧化法對碳化硅微粉中的碳雜質去除率可達98%，但由于粒徑為微粉級的碳化硅表面積過大，如果加熱溫度過高，易造成碳化硅微粉的表面氧化，形成氧化薄膜二氧化硅可能將碳化硅微粉包裹，從而不利于碳雜質的去除。

   化學氧化法，利用硝酸，硫酸和高氯酸中的一種或組成混合酸使用，或者在酸中添加作無機氧化劑的高錳酸鉀和重鉻酸鉀，使碳化硅微粉中的碳雜質以及氣體的形式揮發出去，從而實現了對石墨和游離碳的去除。利用化學氧化法雖然也能使碳化硅微粉中的游離碳氧化成氣體揮發掉，但氧化工藝所添加的強氧化性酸對人體及機器都會有強烈的腐蝕性，所以不利于大規模的工業化生產。

   其實，碳化硅微粉除碳的工藝除了可采用化學法，還可采用物理除碳法，然而，無論是哪種方法，只要能去除碳化硅微粉中的游離碳，拓寬碳化硅微粉的應用范圍，都是可以的。我公司從事碳化硅微粉生產及銷售多年，在加工上也有著豐富的經驗，成熟的技術，可以根據用戶的要求，提供高品質的碳化硅微粉。當然，如果是對碳化硅微粉還有疑惑，想要掌握更多相關信息，也可向我公司咨詢了解。