如何去除碳化硅微粉的雜質

     隨著碳化硅微粉在各行業，各領域的廣泛應用，以及各項高、精、******科學技術的迅速發展。對于碳化硅微粉的品質和純度也提出了更高的要求。碳化硅微粉的提純，分級加工的方法，主要是水溢流分選方式。

     由于碳化硅在冶煉和粉碎過程中不可避免的混入了各種雜質，而這些雜質在碳化硅微粉的使用過程中，對利用碳化硅微粉加工出產品的質量和制造的半導體器件的性能都有很大的影響，增加制品的不良品率，降低加工品的表面加工質量等等。因此，要把碳化硅微粉中的雜質去除。

     其實，碳化硅中主要含有的雜質有碳，三氧化二鐵，三氧化二鋁，氧化鈣和氧化鎂以及二氧化硅等等。這些物質在碳化硅微粉做不同的用途時分別產生不同的影響，其中尤其以三氧化二鐵為重。而在碳化硅的生產流程中，主要采取加酸除雜質的方法。這種去除雜質的方法，成本較低，除雜率高。

     將碳化硅粉碎后，經過二次氣流分級的碳化硅微粉用軟化水按一定比例配制成攪拌均勻的碳化硅料漿。用渣漿泵把料漿輸送至硫酸反應槽，按一定比例加入適量的濃硫酸，加酸后將料漿攪拌均勻，并測定PH值，使料漿在槽內反應10小時以上，從而去除碳化硅微粉中的雜質。